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耐溫可溶性暫時固定劑

HTB-300 耐溫可溶性暫時固定處理劑

HTB-300 為一種高耐溫型(300℃)可溶性暫時固定材料,專為半導體製程與精密加工應用所設計。產品可於高溫加工條件下維持優異固定強度,加工完成後可透過指定溶劑完全去除,不殘留、不污染基材表面。適用於通訊晶片的氣相沉積的高溫製程。

HTB-200耐溫可溶性暫時固定劑

HTB-200 為一種高耐溫型(200℃)可溶性暫時固定材料,專為半導體製程與精密加工應用所設計。產品可於高溫加工條件下維持優異固定強度,加工完成後可透過指定溶劑完全去除,不殘留、不污染基材表面。適用於感測晶片的高溫製程。

HTB-170 耐溫可溶性暫時固定處理劑

HTB-170 為一種高耐溫型(300℃)可溶性暫時固定材料,專為半導體製程與精密加工應用所設計。產品可於高溫加工條件下維持優異固定強度,加工完成後可透過指定溶劑完全去除,不殘留、不污染基材表面。適用於通訊晶片的氣相沉積的高溫製程。

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